特許

J-GLOBAL ID：200903078190221827

ウエハ保持装置及びその製造方法

発明者： 佐野 幸司 ,  大嶋 一之 ,  村松 滋子
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (1件)： 木下 茂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-025063
公開番号（公開出願番号）：特開平11-214491
出願日： 1998年01月22日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：

【要約】【課題】 高温下で、ハロゲン系ガス雰囲気に曝されても焼結体粒子の脱落によるパーティクルの発生が抑制され、且つウエハとウエハ保持装置との摩擦によるパーティクルの発生も回避され、パーティクルの発生を低減でき、耐食性に優れたウエハ保持装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】 窒化アルミニウム焼結体から成り、半導体製造工程で用いられるウエハ保持装置に於いて、該ウエハ保持装置表面が、結晶粒子表面から形成され、その表面粗さ(Ra)が0.6μm以下であり、該窒化アルミニウム焼結体の平均粒径が3μm乃至6μmであることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

窒化アルミニウム焼結体から成り、半導体製造工程で用いられるウエハ保持装置に於いて、該ウエハ保持装置表面が、結晶粒子表面から成り、その表面粗さ(Ra)が0.6μm以下であり、該窒化アルミニウム焼結体の平均粒径が3μm乃至6μmであることを特徴とするウエハ保持装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  C04B 35/581 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/205 ,  C04B 35/58 104 Y ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 窒化アルミニウム焼結体、金属埋設品、電子機能材料および静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-072799   出願人：日本碍子株式会社
• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-073282   出願人：京セラ株式会社
• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-088390   出願人：信越化学工業株式会社
• ウェハ保持部材及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-014492   出願人：京セラ株式会社