特許
J-GLOBAL ID：200903078193869399

基板処理装置の制御方法及び基板処理装置

発明者：
篠塚 真一

篠塚 真一 について

, 
和田 栄希

和田 栄希 について

, 
山下 剛秀

山下 剛秀 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-410105
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175052
出願日： 2003年12月09日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：
【課題】 検査部を備えた塗布現像処理装置において,立ち上げ時に要する時間を短縮しコストを低減し,さらに検査部の稼働率を向上する。【解決手段】 塗布現像処理装置1の制御プログラムにおいて,ウェハWをカセットステーション2から処理ステーション4に搬送して処理ステーション4及び露光装置でおいて処理し,その後カセットステーション2に戻す処理フローF1と,ウェハWをカセットステーション2から検査ステーション3に搬送して検査し,その後カセットステーション2に戻す検査フローF2とを独立して実行できるように設定する。立ち上げ時に,検査フローF2と処理フローF1を実行し,同時期に検査ステーション3の検査ユニットの評価作業と処理ステーション4の処理ユニットの調整作業を行うことができる。検査ステーション3が空の時に外部からカセットステーション2にウェハWを搬入し検査を行うことができる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
基板を搬入出する搬入出部と,基板の処理を行う処理部と,基板の検査を行う検査部を有し,これらの部の間で基板を搬送できるように構成された基板処理装置を制御する方法であって, 前記搬入出部に搬入された基板を前記処理部に搬送して処理する基板の処理フローと,前記搬入出部に搬入された基板を前記検査部に搬送して検査する基板の検査フローとを独立に実行することを特徴とする,基板処理装置の制御方法。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  G05B19/418 ,  H01L21/02 ,  H01L21/68
FI (4件)：
H01L21/30 562 ,  G05B19/418 Z ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/68 A
Fターム (20件)：
3C100AA03 ,  3C100AA22 ,  3C100AA29 ,  3C100AA34 ,  3C100BB21 ,  3C100BB27 ,  3C100BB33 ,  3C100EE06 ,  5F031CA02 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA33 ,  5F031PA02 ,  5F046DA29 ,  5F046DD06 ,  5F046JA04 ,  5F046JA22 ,  5F046KA04 ,  5F046LA01 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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