特許
J-GLOBAL ID：200903078247163250

透明導電膜の形成方法、並びにこれを用いた透明導電基板及び有機EL素子基板

発明者：
岸本 好弘

岸本 好弘 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-061840
公開番号（公開出願番号）：特開2006-244941
出願日： 2005年03月07日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】 熱や曲げなどの機械的負荷が加わっても、導電性を維持できるフレキシビリティ性を有する透明導電膜の形成方法を提供する。【解決手段】 可とう性の透明基板へ透明導電膜を形成した後に、該透明導電膜の表面へ、好ましくはレーザーが連続発振タイプであり、レーザー光の波長が400〜1200nmである可視域から赤外域の波長を有するレーザー光を照射して表面処理を施し、160°Cのオーブンで1時間保持した後に常温に戻す操作を3回繰返す熱サイクル試験においても、透明導電膜にクラックが発生しないことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
可とう性の透明基板へ透明導電膜を形成した後に、該透明導電膜の表面へ、可視域から赤外域の波長を有するレーザー光を照射して表面処理を施すことを特徴とする透明導電膜の形成方法。
IPC (6件)：
H01B 13/00 ,  B32B 7/02 ,  C23C 14/58 ,  H05B 33/02 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/28
FI (6件)：
H01B13/00 503B ,  B32B7/02 104 ,  C23C14/58 C ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/28
Fターム (55件)：
3K007AB05 ,  3K007AB11 ,  3K007AB14 ,  3K007AB15 ,  3K007BA07 ,  3K007CA06 ,  3K007CB01 ,  3K007DB03 ,  4F100AA12 ,  4F100AA20 ,  4F100AA28 ,  4F100AA33 ,  4F100AD05 ,  4F100AK25 ,  4F100AR00C ,  4F100AT00A ,  4F100AT00D ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100EH66 ,  4F100EJ52B ,  4F100EJ64B ,  4F100GB41 ,  4F100JD02C ,  4F100JG01 ,  4F100JG01B ,  4F100JK13 ,  4F100JK14B ,  4F100JK17 ,  4F100JK17A ,  4F100JM02B ,  4F100JN01A ,  4F100JN01B ,  4F100YY00B ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA50 ,  4K029BA52 ,  4K029BB02 ,  4K029BC09 ,  4K029CA05 ,  4K029GA00 ,  4K029GA01 ,  5G323BA02 ,  5G323BB03 ,  5G323BB04 ,  5G323BB05 ,  5G323BC03
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 多結晶薄膜の形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-247672   出願人：コニカミノルタホールディングス株式会社
審査官引用 (4件)
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