特許
J-GLOBAL ID：200903078400301608

位相シフト型フォトマスク

発明者：
金子 英雄

金子 英雄 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-266597
公開番号（公開出願番号）：特開2001-092106
出願日： 1999年09月21日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：
【要約】【解決手段】 露光光が透過する基板上に第2光透過部の位相シフターを形成してなる位相シフト型フォトマスクにおいて、露光光が上記位相シフターの内部において多重反射することを特徴とする位相シフト型フォトマスク。【効果】 本発明によれば、シフター膜を薄くすることができ、また膜厚の変動に対して位相変動を小さくすることができると共に、膜に要求される光学的な制約を少なくすることができる。
請求項（抜粋）：
露光光が透過する基板上に第2光透過部の位相シフターを形成してなる位相シフト型フォトマスクにおいて、露光光が上記位相シフターの内部において多重反射することを特徴とする位相シフト型フォトマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528
Fターム (4件)：
2H095BB03 ,  2H095BC24 ,  5F046AA25 ,  5F046BA08
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM