特許
J-GLOBAL ID：200903079893854305
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-065775
公開番号（公開出願番号）：特開平11-258772
出願日： 1998年03月16日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】 熱処理工程及び特定の薬液処理工程を経ても透過率、屈折率及び消衰係数等の光学定数の変化を起こさないハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供することである。【解決手段】 窒素、酸素、ハロゲンガス等の雰囲気中でジルコニウム又はジルコニウムシリサイドターゲットを使用したスパッタリングにて、石英ガラスからなる透明基板11上に屈折率、消衰係数及び膜厚を調節したジルコニウム又はジルコニウム化合物膜からなる半透明膜12を成膜した後大気又は酸化性雰囲気中で200°C以上の温度にて加熱処理して半透明膜12上に酸化膜層13を形成し、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス10を作製する。さらに、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス10をパターニング処理してハーフトーン型位相シフトマスク20を得る。
請求項（抜粋）：
透明基板上に半透明膜が形成されたハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクスにおいて、該半透明膜の最表面に80Å以上の厚さの酸化膜層を設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
