特許
J-GLOBAL ID：200903078532841849

基板洗浄方法,記録媒体及び基板洗浄装置

発明者：
長安 宏

長安 宏 について

, 
宮本 典生

宮本 典生 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-162703
公開番号（公開出願番号）：特開2006-339434
出願日： 2005年06月02日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】基板洗浄用部材のクリーニング効果を向上させるクリーニング方法及び基板洗浄装置の提供。【解決手段】洗浄液は,多孔部材72の細孔,及び,基板洗浄用スポンジ62の細孔を通過して,接触面62aに染み出,基板洗浄用スポンジ62の内側から外側に洗浄液が流出して,基板洗浄用スポンジ62が洗浄液を含んで濡らされると共に,洗浄液がウェハWに供給される。基板洗浄用スポンジ62の下面部分の厚さを薄く形成すると,基板洗浄用スポンジ62のクリーニング時に,下面部分を通過する洗浄液の流速を効果的に速くすることができ,クリーニング効果が向上する。基板洗浄用スポンジ62の下面部分は硬質の多孔部材72によって補強されているので,下面部分を薄くしても,下面部分が過剰に変形したり破損したりすることを防止でき,ウェハWに対して適度な接触圧を与え,ウェハWを好適に洗浄することができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板に対して基板洗浄用部材を接触又は近接させながら,前記基板洗浄用部材の内側から外側に基板洗浄用流体を流出させ,基板を洗浄する基板洗浄工程と, 前記基板洗浄工程において前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出する基板洗浄用流体の流速よりも速い流速で,前記基板洗浄用部材の内側から外側に部材クリーニング用流体を流出させて,前記基板洗浄用部材をクリーニングする部材クリーニング工程と,を有することを特徴とする,基板洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  B08B 1/04
FI (3件)：
H01L21/304 644C ,  H01L21/304 644Z ,  B08B1/04
Fターム (6件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB23 ,  3B116BA08 ,  3B116BA13 ,  3B116BB72
引用特許：
出願人引用 (8件)
  • 特許3420046号公報
  • 洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-203818   出願人：新日本製鐵株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-085906   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM