特許
J-GLOBAL ID：200903078584381706
ポリチオフェン
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (3件)：
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-038852
公開番号（公開出願番号）：特開2006-225461
出願日： 2005年02月16日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：
【課題】 ヘテロ原子を有する置換基をもつポリチオフェンであって、高度に自己集積化したり、精密なレイヤー構造を形成したりできるなどの特性を有するものを提供。【解決手段】下式(I)で表される繰り返し単位を含み、数平均分子量が1,000以上であり、Mw/Mn(Mwは数平均分子量を表し、Mnは重量平均分子量を表す)が1.0〜1.8の範囲であることを特徴とするポリチオフェン。(式中、R1およびR2はそれぞれ独立に、ヘテロ原子を含む官能基を少なくとも1つ有する置換基または水素原子であり、R1およびR2の1つ以上がヘテロ原子を含む官能基を少なくとも1つ有する置換基であるか、または、R1およびR2が一緒になってヘテロ原子を含む官能基を少なくとも1つ有する環を形成している。)【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下式(I)で表される繰り返し単位を含み、数平均分子量が1,000以上であり、Mw/Mn(Mwは数平均分子量を表し、Mnは重量平均分子量を表す)が1.0〜1.8の範囲であることを特徴とするポリチオフェン。
IPC (3件)：
C08G 61/12
, H01L 51/05
, H01L 29/786
C08G61/12
, H01L29/28
, H01L29/78 618B
4J032BA04
, 4J032BB01
, 4J032BC03
, 4J032BD07
, 4J032CG01
, 5F110AA30
, 5F110GG05
