特許
J-GLOBAL ID：200903078623685475

被汚染金属の処理装置

発明者：
只野 英顕

只野 英顕 について

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貝沼 研吾

貝沼 研吾 について

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林 静男

林 静男 について


出願人/特許権者：
富士電機株式会社

富士電機株式会社 について


代理人 (1件)： 篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-143859
公開番号（公開出願番号）：特開平11-339948
出願日： 1998年05月26日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：
【要約】【課題】繰り返し溶解処理を行ってもるつぼが汚染されず、2次汚染物を作らないで被汚染金属を減容処理する。【解決手段】有底の円筒状に形成されその底部に形成された溶湯を出す流出口6aおよび円筒状部に放射状に略等間隔で設けられた縦長のスリットを有する良導電金属製のるつぼ6、およびるつぼの外径側に設けられた誘導コイル7、誘導コイル7に高周波電流を供給する交流電源8を備えた浮揚溶解装置と、浮揚溶解装置の下方に前記流出口6aから流出する溶湯および小塊を鋳込む鋳型5とで構成する。
請求項（抜粋）：
有害物に汚染された金属廃棄物を減容して保管場所の省スペース化を計る被汚染金属の処理装置であって、該装置は少なくとも、有底の円筒状に形成されその底部に形成された溶湯を出す流出口および円筒状部に放射状に略等間隔で設けられた縦長のスリットを有する良導電金属製のるつぼ、およびるつぼの外径側に設けられた誘導コイル、誘導コイルに高周波電流を供給する交流電源を備えた浮揚溶解装置と、浮揚溶解装置の下方に前記流出口から流出する溶湯および小塊を鋳込む鋳型とで構成することを特徴とする被汚染金属の処理装置。
IPC (2件)：
H05B 6/32 ,  G21F 9/30 551
FI (2件)：
H05B 6/32 ,  G21F 9/30 551 D
引用特許：
審査官引用 (4件)
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