特許
J-GLOBAL ID:200903078790675520
電子部品の洗浄及び取扱方法並びに洗浄装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
清水 善▲廣▼ (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-343551
公開番号(公開出願番号):特開2000-079376
出願日: 1998年11月17日
公開日(公表日): 2000年03月21日
要約:
【要約】【課題】 高度な清浄度を達成できる電子部品の洗浄方法と洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 AlTiCウエハ等の被洗浄物に洗浄水を供給する手段と、前記被洗浄物に接触してその表面を洗浄するスポンジ状部材と、前記被洗浄物と前記スポンジ状部材とを相対移動させる手段と、前記洗浄水を10MΩ以下の比抵抗値を有するようにするための手段とを備える電子部品の洗浄装置を用い、被洗浄物に10MΩ以下の比抵抗値を有する洗浄水を供給しながらスポンジ状部材で被洗浄物を洗浄する。この場合、洗浄前の被洗浄物を10MΩ以下の比抵抗値を有する洗浄水中に浸漬しておくことにより、また、ダミー基板の使用により、更なる清浄度が達成される。
請求項(抜粋):
被洗浄物に10MΩ以下の比抵抗値を有する洗浄水を供給しながらスポンジ状部材で被洗浄物を洗浄する電子部品の洗浄方法。
IPC (4件):
B08B 3/08
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304 644
, H01L 21/304
FI (4件):
B08B 3/08 A
, H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 644 C
, H01L 21/304 644 B
Fターム (11件):
3B201AA03
, 3B201AB01
, 3B201AB34
, 3B201BA08
, 3B201BB02
, 3B201BB21
, 3B201BB93
, 3B201BB98
, 3B201CA01
, 3B201CB25
, 3B201CC13
引用特許:
出願人引用 (11件)
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特開平4-107824
-
特開平4-239752
-
インダクターチップ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-148222
出願人:プレッシーセミコンダクターズリミテッド
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審査官引用 (11件)
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特開平4-107824
-
特開平4-239752
-
インダクターチップ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-148222
出願人:プレッシーセミコンダクターズリミテッド
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