特許
J-GLOBAL ID：200903078799674054

プラズマ処理装置の放電容器

発明者：
高木 憲一

高木 憲一 について


出願人/特許権者：
アネルバ株式会社

アネルバ株式会社 について


代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-180743
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016697
出願日： 1997年06月20日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】 放電圧力の影響を受けることなく、放電容器で生成されるプラズマの密度分布を必要な任意分布に容易に制御し、基板が大型化しても良好な均一性を有するプラズマで基板を処理する。【解決手段】 電力導入窓11とこの一端を封じ接地電位に保持される電極12からなる放電容器13であり、真空容器14に装備され、プラズマ処理装置を構成する。電力導入窓の周囲には電力供給用ループアンテナ19が配置される。電極に対向して基板保持機構17備えられる。電極の放電容器内部側の表面形状は、放電容器の内部に向かって突出した凸形状であり、その頂点部分が放電容器の中心軸上に存在する。
請求項（抜粋）：
誘電体の筒状電力導入窓と前記電力導入窓の一端を封じ接地電位に保持される導電性の電極とにより構成される放電容器と、この放電容器に接続され、連通される真空容器と、前記放電容器内でプラズマを発生するためのアンテナを備えたプラズマ生成機構と、前記真空容器の内部を減圧状態に保持するための排気機構と、前記真空容器内に反応ガスを導入するガス導入機構と、前記電極に対し所定間隔をあけ、前記放電容器の内部空間に接近させて前記真空容器内に設置される基板保持機構とを備えたプラズマ処理装置において、前記電極の放電容器内部側の表面形状は前記放電容器の内部に向かって突出した凸形状であり、その頂点部分が前記放電容器の中心軸上にあることを特徴とするプラズマ処理装置の放電容器。
IPC (5件)：
H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (5件)：
H05H 1/46 L ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
引用特許：
審査官引用 (6件)
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