微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池信夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-140959
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327320
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】機械的な湿式粉砕を行うことなく高い生産性をもってシリカヒドロゲルを微細化する工程を含む微粒子状シリカゲルの製造方法を提供する。【解決手段】シリカヒドロゲルのSiO2 に対する水の量を特定の重量比としたスラリーを水熱処理することにより水熱微粉砕処理し、これをスプレードライヤ等の手段で乾燥する。また、金属化合物微粒子をこのスラリーに加えて乾燥することにより金属化合物微粒子が内包されたシリカゲルを得る。

請求項（抜粋）：

微小粒子状シリカゲルを製造する方法において、(1) アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを反応させ、SiO2 の重量に対する水の重量の比率が、1.5〜5.0重量倍であるシリカヒドロゲルを得るヒドロゲル化工程、(2) 得られたシリカヒドロゲルを、SiO2 濃度が5.0〜15.0重量%のスラリー状態で攪拌下水熱処理し、平均粒子径100μm以下の微細化したシリカヒドロゲルスラリーとする水熱微粉砕工程、及び(3) 当該微細化したヒドロゲルスラリーを乾燥する乾燥工程からなることを特徴とする微小粒子状シリカゲルの製造方法。

Fターム (39件)：

4G072AA28 , 4G072AA35 , 4G072AA36 , 4G072AA37 , 4G072BB05 , 4G072BB07 , 4G072CC10 , 4G072CC11 , 4G072CC13 , 4G072DD03 , 4G072DD04 , 4G072DD05 , 4G072DD06 , 4G072DD07 , 4G072DD08 , 4G072GG03 , 4G072HH21 , 4G072HH22 , 4G072JJ13 , 4G072JJ26 , 4G072LL06 , 4G072LL07 , 4G072MM01 , 4G072MM02 , 4G072MM21 , 4G072MM23 , 4G072MM26 , 4G072MM31 , 4G072PP06 , 4G072PP17 , 4G072QQ01 , 4G072RR06 , 4G072RR12 , 4G072RR19 , 4G072TT01 , 4G072UU09 , 4G072UU15 , 4G072UU17 , 4G072UU30

引用特許：

審査官引用 (15件)

特開昭62-128916
特開昭62-128917
特開平2-221112

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