露光方法及び露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-397519
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195511
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】レーザビーム露光方法において、露光するパターンの微細化に対応するために不可避となる描画ビーム径や分解能の微細化による描画データの肥大化を防ぐことを課題とする。【解決手段】被露光面(14)の露光領域の周辺領域に対して照射面積の小さい、例えば径の小さなビーム(32)を用いて露光し、且つ内部領域を照射面積の大きい、例えば径の大きなレーザビーム(42)を用いると共に、両レーザビームを異なる走査ピッチで走査することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被露光面の単一の露光領域に対して照射面積及び走査ピッチの異なる複数のビームを用いて露光することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 , G03F 7/20 505 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/20 501 , G03F 7/20 505 , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 529

Fターム (10件)：

2H097AA03 , 2H097AA13 , 2H097CA17 , 2H097LA09 , 2H097LA10 , 5F046BA07 , 5F046CA03 , 5F046DA01 , 5F046DA02 , 5F046DB01

引用特許：

審査官引用 (9件)

解像度可変の光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-353741 出願人：旭光学工業株式会社
特開平3-054817
特開平4-026109

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