特許
J-GLOBAL ID:200903078905224845
疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小島 隆司 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-262227
公開番号(公開出願番号):特開2002-069330
出願日: 2000年08月31日
公開日(公表日): 2002年03月08日
要約:
【要約】【解決手段】 シラン化合物の熱分解によって生成した二酸化珪素微粉末をオルガノハロシランにより流動槽で疎水化処理する疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法において、前記二酸化珪素微粉末の3〜20重量%を直接上記流動槽からの廃ガス系に供給し、供給した粉末をサイクロン及びバグフィルターで捕集し、捕集した粉末を流動槽に送り、疎水化処理することを特徴とする疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法。【効果】 本発明によれば、加熱加水分解でできたシリカの一部を未反応シランが存在する廃ガス系内へ供給し、未反応シランをシリカと接触させた後流動槽に送り再度処理することにより、廃ガス中の未反応シランを少なくでき、廃ガス処理の負担が軽減される。また、未反応シランを接触させたシリカが流動槽に送られることから、疎水化処理剤シランの反応効率が上がる。
請求項(抜粋):
シラン化合物の熱分解によって生成した二酸化珪素微粉末をオルガノハロシランにより流動槽で疎水化処理する疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法において、前記二酸化珪素微粉末の3〜20重量%を直接上記流動槽からの廃ガス系に供給し、供給した粉末をサイクロン及びバグフィルターで捕集し、捕集した粉末を流動槽に送り、疎水化処理することを特徴とする疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法。
IPC (3件):
C09C 3/12
, C01B 33/18
, C08K 9/06
FI (3件):
C09C 3/12
, C01B 33/18 C
, C08K 9/06
Fターム (22件):
4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072GG03
, 4G072HH28
, 4G072MM03
, 4G072QQ07
, 4G072RR01
, 4G072RR17
, 4G072RR30
, 4G072UU04
, 4G072UU07
, 4G072UU09
, 4J002AA001
, 4J002DJ016
, 4J002FB116
, 4J002FD016
, 4J037AA18
, 4J037CB23
, 4J037DD05
, 4J037EE02
, 4J037EE15
, 4J037EE25
引用特許:
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