特許
J-GLOBAL ID：200903078977101993

多層反射膜付基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法

発明者：
山田 剛之

山田 剛之 について

, 
細谷 守男

細谷 守男 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (4件)： 青木 宏義 ,  天田 昌行 ,  岡田 喜雅 ,  菅野 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-118704
公開番号（公開出願番号）：特開2009-272317
出願日： 2008年04月30日
公開日（公表日）： 2009年11月19日
要約：
【課題】多層反射膜を構成する材料のみで高い反射率を発揮することができる多層反射膜付基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の多層反射膜付基板の製造方法は、基板1上に、低屈折率層21と高屈折率層22とを交互に積層させた構成の多層反射膜を有する多層反射膜付基板の製造方法であって、前記低屈折率層21は、Si又はSi化合物の低屈折率材料で構成され、前記高屈折率層22は、Mo、Nb、Ru及びRhからなる群より選ばれた高屈折率材料で構成されており、前記高屈折率層22は、前記高屈折率材料のスパッタターゲットからの飛散粒子が前記基板1に向かって垂直方向に対して、所定の入射角度を持って入射するように成膜する斜入射成膜で形成されることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成の多層反射膜を有する多層反射膜付基板の製造方法であって、前記高屈折率層は、Mo、Nb、Ru及びRhからなる群より選ばれた高屈折率材料で構成され、前記低屈折率層は、Si又はSi化合物の低屈折率材料で構成されており、少なくとも前記高屈折率層は、前記高屈折率材料のスパッタリングターゲットからの飛散粒子が前記基板に向かって垂直方向に対して、所定の角度を持って入射するように成膜する斜入射成膜で形成されることを特徴とする多層反射膜付基板の製造方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16
FI (2件)：
H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A
Fターム (7件)：
2H095BA10 ,  2H095BC26 ,  5F046GD01 ,  5F046GD03 ,  5F046GD07 ,  5F046GD10 ,  5F046GD16
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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