特許
J-GLOBAL ID：200903079061180819

発光装置及び発光装置の製造方法

発明者：
飯塚 和幸

飯塚 和幸 について

, 
新井 優洋

新井 優洋 について


出願人/特許権者：
日立電線株式会社

日立電線株式会社 について


代理人 (6件)： 平田 忠雄 ,  角田 賢二 ,  岩永 勇二 ,  中村 恵子 ,  遠藤 和光 ,  野見山 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-293272
公開番号（公開出願番号）：特開2009-123754
出願日： 2007年11月12日
公開日（公表日）： 2009年06月04日
要約：
【課題】逆耐圧の高い発光装置及び逆耐圧の高い発光装置を歩留りよく形成できる発光装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る発光装置は、機械的に加工された加工側面を有する導電性の支持基板と、エッチングで形成されたエッチング側面を有し、少なくとも発光層を含んで支持基板上に設けられる化合物半導体層とを備える。【選択図】図1A
請求項（抜粋）：
機械的に加工された加工側面を有する導電性の支持基板と、 エッチングで形成されたエッチング側面を有し、少なくとも発光層を含んで前記支持基板上に設けられる化合物半導体層と を備える発光装置。
IPC (1件)：
H01L 33/00
FI (1件)：
H01L33/00 B
Fターム (10件)：
5F041AA41 ,  5F041CA04 ,  5F041CA37 ,  5F041CA65 ,  5F041CA74 ,  5F041CA85 ,  5F041CA92 ,  5F041CB15 ,  5F041DA02 ,  5F041DA07
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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