特許
J-GLOBAL ID：200903079155909642
プラズマ処理装置および光学部品の製造法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-343087
公開番号（公開出願番号）：特開平11-172447
出願日： 1997年12月12日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：
【要約】【課題】 面内均一に優れ、ピンホールや局所的に欠陥の少ない被覆性に優れた被覆を形成し得るプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 減圧可能な容器と、プラズマを励起する為のガスを該容器内に供給する為のガス供給手段と、容器内を排気する為の排気手段と、容器内にマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、を有し、被処理体に表面処理を施すプラズマ処理装置である、マイクロ波供給手段は、複数のマイクロ波放射体を有し、その被処理体に対向する面が被処理体の被処理面に対応して所定の方向に向いている。
請求項（抜粋）：
減圧可能な容器と、プラズマを励起する為のガスを該容器内に供給する為のガス供給手段と、前記容器内を排気する為の排気手段と、前記容器内にマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、を有し、被処理体に表面処理を施すプラズマ処理装置において、前記マイクロ波供給手段は、複数のマイクロ波放射体を有し、その前記被処理体に対向する面が該被処理体の被処理面に対応して所定の方向に向いていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
C23C 16/50
, G02B 1/10
, H05H 1/46
C23C 16/50
, H05H 1/46 B
, G02B 1/10 Z
