特許

J-GLOBAL ID：200903079396212197

反応現像画像形成法

発明者： 大山 俊幸 ,  友井 正男
出願人/特許権者： 国立大学法人横浜国立大学
代理人 (2件)： 下田 昭 ,  赤尾 謙一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-035508
公開番号（公開出願番号）：特開2006-221019
出願日： 2005年02月14日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：

【課題】 側鎖にカルボニル基を有するポリマーを用い、これに紫外線を照射し、金属アルコキシドと極性溶媒から成る現像液を用いて1段階で現像してフォトレジストを形成する新規な「反応現像画像形成法」を提供する。 【解決手段】 本発明は、基板上に側鎖にカルボニル基を有するポリマー及び光酸発生剤から成るフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクする段階、このパターン面に紫外線を照射する段階、及び該フォトレジスト層を現像液で処理する現像段階から成り、該現像液が下式 MO-R-X(式中、Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属、Rはアルキレン基、Xは1級アミノ基、2級アミノ基又は3級アミノ基を表す。)で表される金属アルコキシドと極性溶媒を含む反応現像画像形成法である。この反応現像画像形成法により形成されたフォトレジスト層を有する基板は、ミクロ電子工学及びオプトエレクトロニクス回路や部品に利用することができる。 【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基板上に側鎖にカルボニル基を有するポリマー及び光酸発生剤から成るフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクする段階、このパターン面に紫外線を照射する段階、及び該フォトレジスト層を現像液で処理する現像段階から成り、該現像液が下式 MO-R-X (式中、Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属、Rはアルキレン基、Xは1級アミノ基、2級アミノ基又は3級アミノ基を表す。)で表される金属アルコキシドと極性溶媒を含む反応現像画像形成法。

IPC (4件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/32 ,  G03F7/004 503Z ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 569E

Fターム (16件)：

2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025FA15 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA09 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA03 ,  2H096GA05 ,  5F046LA12

引用特許：

出願人引用 (4件)

• アセタール又はその環状誘導体の側鎖を有するポリアミド及びそれから調製された耐熱性ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-226637   出願人：コリアリサーチインスティチユートオブケミカルテクノロジイ
• ナフトール構造を有するイオン形光酸発生剤及びこれを用いた感光性ポリイミド組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-398334   出願人：三星電子株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-372757   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 反応現像画像形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-309500   出願人：よこはまティーエルオー株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-035434
  
• 特開昭63-124047
  
• 反応現像画像形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-375137   出願人：よこはまティーエルオー株式会社
• 特表2051-502780
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 反応現像画像形成法によるビニルポリマーへの感光性の付与