特許
J-GLOBAL ID:200903079403963217

高分子光導波路の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-309586
公開番号(公開出願番号):特開2004-144987
出願日: 2002年10月24日
公開日(公表日): 2004年05月20日
要約:
【課題】簡便な方法で、生産性が高く、コア形状を高精度に維持して導波損失の少ない高分子光導波路を製造する方法を提供すること。【解決手段】1)凸部が形成された原盤を用いて、凸部に対応する凹部、並びに該凹部の両端部である進入部及び排出部を有する鋳型を作製する工程、2)鋳型にクラッド用基材を密着させる工程、3)鋳型の進入部からコア形成用硬化性樹脂を鋳型凹部に進入させる工程、4)進入させた樹脂を硬化させ、鋳型をクラッド用基材から剥離する工程、5)コアが形成されたクラッド用基材の上に、クラッド層を形成する工程、を有する高分子光導波路の製造方法であって、前記鋳型が、鋳型形成用硬化性樹脂が硬化した層からなり前記凹部並びに進入部及び排出部が設けられた硬化樹脂層と、前記硬化樹脂層を補強しかつコア形成用硬化性樹脂を圧入するための注入口を備えた強化部材とを有する高分子光導波路の製造方法。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
1)光導波路に対応する凸部が形成された原盤を用いて、前記凸部に対応する凹部、並びに該凹部の両端部であるコア形成用硬化性樹脂の進入部及び排出部を有する鋳型を作製する工程、 2)前記鋳型にクラッド用基材を密着させる工程、 3)前記鋳型の進入部からコア形成用硬化性樹脂を鋳型凹部に進入させる工程、 4)進入させたコア形成用硬化性樹脂を硬化させ、鋳型をクラッド用基材から剥離する工程、 5)コアが形成されたクラッド用基材の上に、クラッド層を形成する工程、 を有する高分子光導波路の製造方法であって、 前記鋳型が、鋳型形成用硬化性樹脂が硬化した層からなり前記凹部並びに進入部及び排出部が設けられた硬化樹脂層と、前記硬化樹脂層を補強しかつコア形成用硬化性樹脂を圧入するための注入口を備えた強化部材とを有することを特徴とする高分子光導波路の製造方法。
IPC (1件):
G02B6/13
FI (1件):
G02B6/12 M
Fターム (3件):
2H047KA04 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05
引用特許:
審査官引用 (25件)
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引用文献:
審査官引用 (11件)
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