反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-205480
公開番号（公開出願番号）：特開平11-038622
出願日： 1997年07月16日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】本発明は、レジスト組成物層と反射防止膜との間にインターミキシングの起ることのない反射防止膜形成用組成物及び寸法精度、断面形状に優れたレジストパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】活性光線の照射により酸を発生する化合物、酸の存在下で架橋化反応する化合物及び染料を含有することを特徴とする反射防止膜形成用組成物、及び該反射防止膜形成用組成物を用いたレジストパターンの形成方法。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の存在下で架橋化反応する化合物及び(C)染料を含有することを特徴とする反射防止膜形成用組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 507 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 Z , G03F 7/004 507 , G03F 7/11 503 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 568

引用特許：

審査官引用 (4件)

ハレーション止め組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-328816 出願人：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
反射防止膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-293053 出願人：日本電気株式会社
レジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-226118 出願人：株式会社東芝

全件表示

前のページに戻る