オーバーライト可能な光磁気記録方法、光磁気記録媒体及び光磁気記録装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-277947
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130030
出願日： 1993年11月08日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】レーザービームの低レベル、高レベル及びピークレベルのうち、低レベルと高レベルを含む少なくとも2つの比を一定に制御すること、及び使用温度範囲で、マークを形成する下限強度と、高レベルで形成したマークを消去できる下限強度の間に低レベルを調節するオーバーライト可能な光磁気記録方法を提供する。【構成】光磁気記録媒体に記録特性の温度依存性情報を予め記録しておき、この媒体に記録する際にはレーザービームの変調条件をこの情報に合わせて設定する。

請求項（抜粋）：

記録すべき2値化情報0、1に従いレーザービームを強度変調し、変調された前記レーザービームを相対移動している光磁気記録媒体上に照射することにより、前記0または1のいずれか一方に相当するマークを前記媒体に形成し、それにより情報を記録する光磁気記録方法であって、前記レーザービーム強度をあるレベルPL から、PL より高いPH に立ち上げて時間Tw1維持した後、PL に立ち下げ、その後はPL より高い強度Pw2とPL の間を1回当たりのPw2の維持時間Tw2、周期Tp で立ち上げ立ち下げを繰り返した後、PL より低い強度PLBに立ち下げて時間TOFF 維持した後、再びPL に立ち上げるという一連のパターンにより1個のマークを形成する記録方法において、次の条件を満たすことを特徴とするオーバーライト可能な光磁気記録方法。(1) 前記PL が、使用温度範囲でマークを形成する下限強度PHth と、PH で形成したマークを消去できる下限強度PLth の間であること。(2) PL 、PH 及びPw2のうちPL とPH を含む少なくとも2つの比を一定に制御すること。

IPC (3件)：

G11B 11/10 586 , G11B 11/10 506 , G11B 11/10 551

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-162751
光記録の記録方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-249190 出願人：株式会社日立製作所
光磁気記録の記録方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-002343 出願人：株式会社日立製作所

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オーバーライト可能な光磁気記録方法、光磁気記録媒体 及び光磁気記録装置

オーバーライト可能な光磁気記録方法、光磁気記録媒体及び光磁気記録装置