反射防止膜形成組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-289102
公開番号（公開出願番号）：特開2004-126161
出願日： 2002年10月01日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】半導体装置の製造に用いられる波長の光に良好な光吸収性を示し、高い反射光防止効果を持ち、フォトレジスト層と比較して大きなドライエッチング速度を有する反射防止膜のための反射防止膜形成組成物を提供すること。【解決手段】ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基で置換されたグリコールウリル化合物、吸光性化合物及び/又は吸光性樹脂を含有することを特徴とする反射防止膜形成組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記の式(1)

IPC (9件)：

G03F7/11 , C08G85/00 , C09D5/00 , C09D7/12 , C09D187/00 , C09D201/00 , C09D201/02 , G03F7/004 , H01L21/027

FI (9件)：

G03F7/11 503 , C08G85/00 , C09D5/00 Z , C09D7/12 , C09D187/00 , C09D201/00 , C09D201/02 , G03F7/004 506 , H01L21/30 574

Fターム (27件)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025DA34 , 4J031BA07 , 4J031BA11 , 4J031BB01 , 4J031BB02 , 4J031BB03 , 4J031BD22 , 4J031CA36 , 4J031CB09 , 4J038DJ001 , 4J038GA03 , 4J038GA06 , 4J038GA09 , 4J038GA13 , 4J038HA226 , 4J038JA03 , 4J038JB36 , 4J038KA02 , 4J038KA04 , 4J038NA19 , 4J038PA19 , 4J038PB09 , 5F046PA07

引用特許：

審査官引用 (5件)

光酸発生剤をしてなる反射防止コーティング組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-061845 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
反射防止膜材料組成物及びそれを利用したレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-046001 出願人：富士写真フイルム株式会社
反射防止組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-231972 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー

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