特許
J-GLOBAL ID：200903099228999433

反射防止組成物

発明者：
ピーター・トレフォナス,ザサード

ピーター・トレフォナス,ザサード について

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マニュエル・ドカント

マニュエル・ドカント について

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エドワード・ケイ・パベルチェク

エドワード・ケイ・パベルチェク について


出願人/特許権者：
シップレーカンパニー エル エル シー

シップレーカンパニー エル エル シー について


代理人 (1件)： 千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-231972
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072489
出願日： 2001年07月31日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：
【要約】【課題】露光している放射線の、基盤から上塗りされたフォトレジスト層への反射を減少させる組成物の提供。【解決手段】塩基性物質および架橋剤を含む反射防止組成物層、および該反射防止組成物層の上のフォトレジスト層、を含む被覆された基体。
請求項（抜粋）：
塩基性物質および架橋剤を含む反射防止組成物層、および該反射防止組成物層の上のフォトレジスト層、を含む被覆された基体。
IPC (7件)：
G03F 7/11 503 ,  B32B 7/02 103 ,  C09D201/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/11 503 ,  B32B 7/02 103 ,  C09D201/02 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 574
Fターム (44件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025DA34 ,  2H025DA40 ,  2H025FA10 ,  4F100AK01B ,  4F100AK01K ,  4F100AR00C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CA02B ,  4F100GB41 ,  4F100JA07B ,  4F100JB14C ,  4F100JN06B ,  4F100YY00B ,  4J038CC091 ,  4J038CG141 ,  4J038CG161 ,  4J038DA161 ,  4J038DA171 ,  4J038DL081 ,  4J038GA02 ,  4J038GA03 ,  4J038GA09 ,  4J038GA13 ,  4J038JC13 ,  4J038KA03 ,  4J038KA06 ,  4J038MA14 ,  4J038PA17 ,  4J038PA18 ,  5F046PA07
引用特許：
審査官引用 (11件)
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