特許
J-GLOBAL ID:200903079825428314
自動分析装置および自動分析装置における不具合解消方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
酒井 宏明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-052265
公開番号(公開出願番号):特開2009-210336
出願日: 2008年03月03日
公開日(公表日): 2009年09月17日
要約:
【課題】検体や試薬等を無駄に消費することなく分注異常を検出し、かつ不具合箇所の特定を適切に行うこと。【解決手段】分注異常検出部161は、液面検知装置20-4〜6からの液面検知信号によって検知される第1試薬分注後、検体分注後および第2試薬分注後の反応容器Cの液面から反応容器C内の液量を求め、この液量をもとに、分注異常の発生を検出する。不具合特定部163は、分注異常検出部161によって分注異常の発生が検知された場合に、反応容器C内の液量が所定量より多いか少ないかに応じた不具合特定処理を行い、不具合箇所を特定する。不具合解消処理部165は、不具合特定部163によって特定された不具合箇所に応じた不具合解消処理を行う。【選択図】図2
請求項(抜粋):
分注プローブによって反応容器内に液体を分注する分注手段を備え、前記分注手段によって前記反応容器内に分注された液体を光学的に測定して分析する自動分析装置であって、
前記分注手段によって分注された前記反応容器の液面を検知する液面検知手段と、
前記液面検知手段によって検知された液面から求まる前記反応容器内の液量が所定量か否かをもとに、分注異常の発生を検出する異常検出手段と、
前記異常検出手段によって分注異常の発生が検出された場合に、前記反応容器内の液量が所定量より多いか少ないかに応じた不具合特定処理を行って不具合箇所を特定する不具合特定手段と、
前記不具合特定手段によって特定された前記不具合箇所に応じた不具合解消処理を行う不具合解消処理手段と、
を備えることを特徴とする自動分析装置。
IPC (1件):
FI (2件):
G01N35/00 F
, G01N35/00 E
Fターム (6件):
2G058CA01
, 2G058CB03
, 2G058CC03
, 2G058EA02
, 2G058GA01
, 2G058GB02
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
自動分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-255439
出願人:株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
-
自動分析装置及び化学分析方法の精度管理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-249733
出願人:株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
審査官引用 (2件)
-
自動分析装置及び自動分析方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-269355
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ, 株式会社日立サイエンスシステムズ
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液量測定方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-133325
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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