特許
J-GLOBAL ID：200903079970673050

測定方法、調整方法、マーク物体、及び検出装置

発明者：
白石 直正

白石 直正 について

, 
馬込 伸貴

馬込 伸貴 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-032039
公開番号（公開出願番号）：特開2006-157041
出願日： 2006年02月09日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：
【課題】露光装置のアライメントセンサ等の検出装置の特性計測用のマークを正確に形成すると共に、その検出装置の検出光学系の特性を高精度に測定する。【課題を解決するための手段】検出光学系を介してマークを検出する検出装置の、その検出光学系の収差を測定する測定方法であって、第1の幅を持つ凹パターン31aを含む第1マークDM1と、この第1の幅よりも狭い第2の幅を持つ凹パターン32aを含む第2マークDM2とが計測方向に隣接配置されている被検マークに対して、照明光を照射し、その被検マークの像の計測結果に基づいて、その検出光学系の所定の光学特性を測定する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
検出光学系を介してマークを検出する検出装置の、該検出光学系の収差を測定する測定方法であって、 第1の幅を持つパターンを含む第1パターン部と、該第1の幅よりも狭い第2の幅を持つパターンを含む第2パターン部とが計測方向に隣接配置されている被検マークに対して、照明光を照射し、 前記照明光で照明された前記被検マークからの光束を、前記検出光学系を介して所定面上に集光して、前記所定面上に前記被検マークの像を形成し、 前記所定面上に形成された前記被検マークの像に基づいて、前記被検マークを計測し、 前記被検マークの計測結果に基づいて、前記検出光学系の所定の光学特性を測定することを特徴とする測定方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G01M 11/02
FI (3件)：
H01L21/30 525R ,  H01L21/30 522B ,  G01M11/02 B
Fターム (12件)：
2G086HH06 ,  5F046BA03 ,  5F046EA03 ,  5F046EA10 ,  5F046EA12 ,  5F046EB01 ,  5F046EB03 ,  5F046EC05 ,  5F046FA03 ,  5F046FA10 ,  5F046FB04 ,  5F046FB19
引用特許：
審査官引用 (6件)
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