特許

J-GLOBAL ID：200903080044457406

感放射線性樹脂組成物

発明者： 小林 英一 ,  横山 健一 ,  西村 幸生 ,  岩永 伸一郎
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-252601
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084662
出願日： 1997年09月03日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】 解像度およびパターン形状が優れ、かつ膜面荒れも小さく、さらに光近接効果が小さく、ライン・アンド・スペースパターンと孤立パターンの双方について、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)p-ヒドロキシスチレンに代表される繰返し単位、p-メトキシメトキシスチレンに代表される繰返し単位およびp-1-エトキシプロポキシスチレンに代表される繰返し単位を含む共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。

請求項（抜粋）：

(A)下記式(1)で表される繰返し単位、下記式(2)で表される繰返し単位および下記式(3)で表される繰返し単位を含む共重合体、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物。【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基を示す。)【化2】(式中、R2 およびR3 は、相互に同一でも異なってもよく、水素原子またはメチル基を示し、R4 は水素原子、メチル基またはエチル基を示す。)【化3】(式中、R5 およびR6 は、相互に同一でも異なってもよく、水素原子またはメチル基を示し、R7 は炭素数2〜4のアルキル基、アルコキシアルキル基(但し、アルコキシ基部分の炭素数は1〜4であり、アルキル基部分の炭素数は1〜3である。)または炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基を示し、R8 は水素原子、メチル基またはエチル基を示す。)

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-019001   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-266776   出願人：信越化学工業株式会社
• 酸に不安定な保護基を有するフェノール樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-006982   出願人：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
• 新規なレジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-353490   出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社