特許
J-GLOBAL ID:200903080065576081
排ガス処理装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-279646
公開番号(公開出願番号):特開2001-096135
出願日: 1999年09月30日
公開日(公表日): 2001年04月10日
要約:
【要約】【課題】 排ガス中の有害物質を確実に除害することのできる排ガス処理装置を提供すること。【解決手段】 本発明の排ガス処理装置は、排ガス中の対象物質を加熱分解する処理筒3を備えており、処理筒3は、その内部が第一区画301及び第二区画302とに分割されており、第一区画301は、その一端に排ガス導入用の導入管7が接続されると共に他端が第二区画302の一端と連通し、かつ、その内部に排ガス加熱用の熱源304を有し、第二区画302は、その他端に排ガス排出用の排出管9が接続され、かつ、その内部に対象物質の加熱分解を促進する処理剤が充填されることを特徴としている。
請求項(抜粋):
排ガス中の対象物質を加熱分解する処理筒を備えた排ガス処理装置において、前記処理筒の内部は、中央部に配された第一区画と前記第一区画の周囲に配置された第二区画とに分割されており、前記第一区画は、その一端に排ガス導入用の導入管が接続されると共に他端が前記第二区画の一端と連通し、かつ、その内部に排ガス加熱用の熱源を有し、前記第二区画は、その他端に排ガス排出用の排出管が接続され、かつ、その周囲に前記処理筒内部を加熱する副熱源が配設されていることを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (2件):
B01D 53/68
, B01D 53/34 ZAB
FI (2件):
B01D 53/34 134 C
, B01D 53/34 ZAB
Fターム (17件):
4D002AA22
, 4D002AC10
, 4D002BA12
, 4D002BA13
, 4D002BA15
, 4D002DA11
, 4D002DA22
, 4D002EA02
, 4D002GA01
, 4D002GA02
, 4D002GA03
, 4D002GB01
, 4D002GB02
, 4D002GB03
, 4D002GB04
, 4D002GB11
, 4D002GB12
引用特許:
審査官引用 (8件)
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難分解物質の分解処理方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-044635
出願人:旺栄開発工業株式会社, 株式会社タダノ
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排オゾン処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-171422
出願人:株式会社東芝
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フロンの分解処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-026439
出願人:株式会社日立製作所
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特開昭57-206899
-
特開平3-181316
-
排ガス除害装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-190872
出願人:セイコーエプソン株式会社
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特開平3-181316
-
特開昭57-206899
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