レジスト剥離液

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永井隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-142803
公開番号（公開出願番号）：特開2003-330205
出願日： 2002年05月17日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】半導体製造に使用するフォトレジスト剥離液、特に非灰化レジストの剥離液を提供する。【解決手段】過酸化水素4〜30重量%、アンモニウムイオン0.01〜15重量%、ならびに燐酸イオンおよび/または炭酸イオン0.01〜15重量%を含有し、且つpH5以上であることを特徴とするレジスト剥離液。

請求項（抜粋）：

過酸化水素4〜30重量%、アンモニウムイオン0.01〜15重量%、ならびに燐酸イオンおよび/または炭酸イオン0.01〜15重量%を含有し、且つpH5以上であることを特徴とするレジスト剥離液。

IPC (2件)：

G03F 7/42 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 , H01L 21/30 572 B

Fターム (5件)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096AA28 , 2H096LA03 , 5F046MA02

引用特許：

審査官引用 (7件)

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