フォトリソグラフデバイスおよびレチクルステージ

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-040342
公開番号（公開出願番号）：特開2002-252171
出願日： 2002年02月18日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】システムが二重露光モードで使用される場合に、スループットを上昇させることである。【解決手段】レチクルステージは、少なくとも2つのレチクルを同時に保持するように構成されており、かつ少なくとも2つのレチクルを走査することのできる運動範囲を有し、投影光学系は、少なくとも2つのレチクルの少なくとも一部の画像を感光性基板に投影するように配置されており、基板ステージは前記感光性基板を保持し、前記投影光学系からの投影画像を受光するように配置されており、ステージコントローラは前記レチクルステージおよび前記基板ステージに接続されており、前記ステージコントローラは少なくとも2つのレチクルの1つの画像を位置決めして、感光性基板上のフィールドを露光し、続いて少なくとも2つのレチクルの他方の画像を位置決めし、前記フィールドを再露光する。

請求項（抜粋）：

レチクルステージと、投影光学系と、基板ステージと、ステージコントローラとを有するフォトリソグラフデバイスであって、前記レチクルステージは、少なくとも2つのレチクルを同時に保持するように構成されており、かつ少なくとも2つのレチクルを走査することのできる運動範囲を有し、前記投影光学系は、少なくとも2つのレチクルの少なくとも一部の画像を感光性基板に投影するように配置されており、前記基板ステージは前記感光性基板を保持し、前記投影光学系からの投影画像を受光するように配置されており、前記ステージコントローラは前記レチクルステージおよび前記基板ステージに接続されており、前記ステージコントローラは少なくとも2つのレチクルの1つの画像を位置決めして、感光性基板上のフィールドを露光し、続いて少なくとも2つのレチクルの他方の画像を位置決めし、前記フィールドを再露光し、これにより少なくとも2つのレチクルの画像が前記フィールドを露光し、その際に前記レチクルステージ上でレチクルを交換する必要がない、ことを特徴とするフォトリソグラフデバイス。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/22

FI (4件)：

G03F 7/22 H , H01L 21/30 514 A , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 528

Fターム (8件)：

5F046AA13 , 5F046AA25 , 5F046BA05 , 5F046CB17 , 5F046CC02 , 5F046CC03 , 5F046DA08 , 5F046FA09

引用特許：

審査官引用 (6件)

投影露光方法及び投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-027206 出願人：株式会社ニコン
バイナリパタ-ン及び位相シフトパタ-ンを備えたデュアルフォトマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-008282 出願人：ユナイテッドマイクロエレクトロニクスコープ
露光フィールド内露光量均一性測定方法、レチクル、及びスキャン型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-155509 出願人：株式会社半導体先端テクノロジーズ

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