投影露光方法及び投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-027206
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209039
出願日： 1997年01月27日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】感応基板上に所望のパターン像を高解像度かつ大焦点深度で露光できるようにする。【解決手段】第1の露光工程では、所定方向のL/Sパターンから成る第1のパターンが形成されたレチクルRのパターン形成面に対してほぼフーリエ変換相当面若しくはその近傍の面における光量分布が、光軸中心AXからL/Sパターンの周期方向に対して直交する方向に対称に偏心した位置に中心を有する2つの領域を光が透過するような開口絞り59を用いて露光が行われる。第2の露光工程では、第1の露光工程のL/Sパターンと直交方向のラインパターンから成る第2のパターンが形成されたレチクルRのパターンに対して、同様にライン方向に直交する方向に対称に偏心した位置に中心を有する開口絞り59を用いて露光が行われる。これらを重ね合わせ露光することにより、所望のパターン像が高解像度かつ大焦点深度で露光される。

請求項（抜粋）：

複数のパターンを投影光学系を介して感応基板上の所定領域にそれぞれ重ね合わせ露光する投影露光方法であって、所定方向のラインパターンから成る第1のパターンが形成されたマスクを前記投影光学系に関して前記感応基板と共役な位置に配設するとともに、該マスク面のほぼフーリエ変換相当面、もしくはその近傍の面内の光軸に関する点対称位置にそれぞれの中心を有する2つの偏心領域に照明光を透過させて、前記光軸に対して前記第1のパターンのライン方向と直交する方向に所定量だけ傾いた照明光束により前記第1のパターンを照明する第1の露光工程と;前記第1のパターンに直交する方向のラインパターンから成る第2のパターンが形成されたマスクを前記投影光学系に関して前記感応基板と共役な位置に配設するとともに、該マスク面のほぼフーリエ変換相当面、もしくはその近傍の面内の光軸に関する点対称位置にそれぞれの中心を有する2つの偏心領域に照明光を透過させて、前記光軸に対して前記第2のパターンのライン方向と直交する方向に所定量だけ傾いた照明光束により前記第2のパターンを照明する第2の露光工程と;を含む投影露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 514 Z , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 F

引用特許：

審査官引用 (18件)

特開平4-273245
特開平4-273245
特開平4-186244

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