特許
J-GLOBAL ID：200903080407054589
射出成形法による反射防止物品の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-354089
公開番号（公開出願番号）：特開2003-154555
出願日： 2001年11月20日
公開日（公表日）： 2003年05月27日
要約：
【要約】【課題】 光反射低減、及び表示視認性向上ができる微細凹凸による反射防止が成された反射防止物品を生産性良く製造する。【解決手段】 樹脂基材1の表面に反射防止用の微細凹凸2を形成して成る樹脂成形物として反射防止物品10を射出成形法で製造する際に、(A)先ず、微細凹凸形状を造形した原型30を作製し、(B)賦形型31として原型表面の微細凹凸形状を1又は2回以上の型取・反転による複製を経て複製型を作製し、(C)賦形型を装着した射出成形型21、22を用いて射出成形する、各工程を順次行う。微細凹凸2の形状は、微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXを、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長λMIN以下、水平断面内での樹脂基材材料部分の断面積占有率が、微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次減少して行く様な形状とする。
請求項（抜粋）：
樹脂基材の表面に反射防止用の微細凹凸を形成して成る樹脂成形物として反射防止物品を射出成形法で製造する方法であって、上記微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長をλMIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXとしたときに、PMAX≦λMINなる関係を有し、且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける樹脂基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、上記反射防止物品を射出成形法によって製造する際に、工程として順次、(A)先ず、微細凹凸形状を造形した原型を作製し、(B)次いで、賦形型として、上記原型の表面の微細凹凸形状を1又は2回以上の型取・反転による複製を経て複製型を作製し、(C)次いで、上記賦形型を装着した射出成形型を用いて射出成形して、反射防止物品を作製する、各工程を行う、射出成形法による反射防止物品の製造方法。
IPC (3件)：
B29C 45/37
, G02B 1/11
, B29L 31:00
B29C 45/37
, B29L 31:00
, G02B 1/10 A
2K009AA12
, 2K009BB02
, 2K009BB11
, 2K009BB14
, 2K009DD12
, 2K009DD15
, 4F202AF01
, 4F202AG02
, 4F202AG05
, 4F202AG26
, 4F202AH33
, 4F202AH73
, 4F202AJ03
, 4F202CA11
, 4F202CB01
, 4F202CK43
