特許
J-GLOBAL ID：200903080794705312
容量式の真空測定セルのためのダイヤフラム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-526789
公開番号（公開出願番号）：特表2002-500352
出願日： 1998年12月04日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：
【要約】本発明は、高度に耐食性のある容量式の真空測定セルのためのダイヤフラムに関する。非常に低い圧力を高い精度で測定できるようにするため、このダイヤフラムは厚さ250μm以下と非常に薄く、特に120μm以下である。このダイヤフラムは、シート状の成形体から、焼結の後、平坦化することによって高い平坦度をもつように製作される。
請求項（抜粋）：
Al2O3からなる真空測定セルのためのダイヤフラムであって、10μmから250μmの範囲内、有利には10μmから120μmの範囲内の厚さを有していることを特徴とするダイヤフラム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
2F055AA11
, 2F055BB08
, 2F055CC02
, 2F055DD09
, 2F055EE25
, 2F055FF38
, 2F055FF43
, 2F055GG01
, 2F055GG11
