特許
J-GLOBAL ID：200903080801807622

プラズマリアクター

発明者：
金子 和史

金子 和史 について

, 
村上 平

村上 平 について


出願人/特許権者：
ケーイーエム株式会社

ケーイーエム株式会社 について


代理人 (1件)： 岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-263157
公開番号（公開出願番号）：特開2003-077893
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：
【要約】【課題】 半導体基板などにエッチング、アッシング、CVD等の処理を施すプラズマリアクターであって、設置時や処理条件の変更時に共振周波数やインピーダンスの機械的調整を一層容易に行い得るプラズマリアクターを提供する。【解決手段】 プラズマリアクターは、反応容器(11)、共振コイル(12)及び外側シールド(13)から成る螺旋共振器(1)、被処理物(W)を収容する処理室(5)、共振コイル(12)に高周波電力を供給する高周波電源(2)、ならびに、高周波電源(2)の発振周波数を制御する周波数整合器(3)を備えている。そして、高周波電源(2)に出力される周波数信号の値を螺旋共振器(1)の共振周波数の値として表示可能で且つ螺旋共振器(1)からの反射波電力の値を表示可能な表示装置(8)により、螺旋共振器(1)の共振周波数を視認できる様になされている。
請求項（抜粋）：
減圧可能に構成され且つプラズマ用ガスが供給される反応容器と、当該反応容器の外周に巻回された共振コイルと、当該共振コイルの外周に配置され且つ電気的に接地された外側シールドとから成る螺旋共振器、前記反応容器に連続して設けられ且つ被処理物を収容する処理室、前記共振コイルに所定周波数の高周波電力を供給する高周波電源、ならびに、前記螺旋共振器からの反射電力が最小となる様に前記高周波電源の発振周波数を制御する周波数整合器を備えたプラズマリアクターであって、前記周波数整合器から前記高周波電源に出力される周波数信号の値を前記螺旋共振器の共振周波数の値として表示可能で且つ当該周波数信号における螺旋共振器からの反射波電力の値を表示可能な表示装置が設けられていることを特徴とするプラズマリアクター。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ,  C23C 16/507 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
C23C 16/507 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
Fターム (24件)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030KA12 ,  4K030KA30 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004CB07 ,  5F004DA00 ,  5F004DA04 ,  5F004DA23 ,  5F004DA24 ,  5F004DA26 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045BB08 ,  5F045EH11 ,  5F045EH20 ,  5F045GB08
引用特許：
審査官引用 (6件)
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