特許
J-GLOBAL ID：200903080825614329
水素製造システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮川 貞二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-030670
公開番号（公開出願番号）：特開2003-226501
出願日： 2002年02月07日
公開日（公表日）： 2003年08月12日
要約：
【要約】【課題】 廃棄物等を原料とするコンパクトで効率の良い水素製造システムを提供する。【解決手段】 高温の流動媒体c1でガス化室流動床を形成し被処理物aをガス化して水素分を含有する可燃性合成ガスbを発生するガス化室1と、高温の流動媒体c2でチャー燃焼室流動床を形成しガス化室1でのガス化に伴い発生するチャーhをチャー燃焼室流動床内で燃焼させ流動媒体c2を加熱するチャー燃焼室2と、合成ガスから余剰成分kの除去を行い高純度の水素jを得る水素分離装置120とを備え、ガス化室1とチャー燃焼室2とは流動床の界面より鉛直上方においてはガスの流通がないよう仕切られ、仕切の下部にはガス化室1とチャー燃焼室2を連通する連通口25が形成され、チャー燃焼室2側からガス化室1側へチャー燃焼室2で加熱された流動媒体c2を移動するように構成された水素製造システム。
請求項（抜粋）：
高温の流動媒体を内部で流動させ、第1の界面を有するガス化室流動床を形成し、前記ガス化室流動床内で被処理物をガス化して水素分を含有する可燃性合成ガスを発生するガス化室と;高温の流動媒体を内部で流動させ、第2の界面を有するチャー燃焼室流動床を形成し、前記ガス化室でのガス化に伴い発生するチャーを前記チャー燃焼室流動床内で燃焼させ前記流動媒体を加熱するチャー燃焼室と;前記合成ガスから余剰成分の除去を行い高純度の水素を得る水素分離装置とを備え;前記ガス化室と前記チャー燃焼室とは、前記それぞれの流動床の界面より鉛直上方においてはガスの流通がないように第1の仕切壁により仕切られ、前記第1の仕切壁の下部には前記ガス化室と前記チャー燃焼室を連通する連通口であって、該連通口の上端の高さは前記第1の界面および第2の界面以下である連通口が形成され、該連通口を通じて、前記チャー燃焼室側から前記ガス化室側へ前記チャー燃焼室で加熱された流動媒体を移動するように構成された;水素製造システム。
IPC (6件)：
C01B 3/02 ZAB
, B01D 53/04
, C10J 3/00
, C10J 3/46
, C10K 1/32
, C10K 3/04
C01B 3/02 ZAB Z
, B01D 53/04 B
, C10J 3/00 K
, C10J 3/46 J
, C10J 3/46 K
, C10J 3/46 L
, C10J 3/46 M
, C10K 1/32
, C10K 3/04
4D012CA20
, 4D012CB16
, 4D012CD07
, 4D012CG01
, 4D012CH01
, 4D012CH04
, 4D012CH05
, 4D012CH10
, 4D012CK01
, 4D012CK03
, 4D012CK10
, 4G040BA02
, 4G040BB03
, 4H060AA01
, 4H060AA02
, 4H060BB02
, 4H060BB12
, 4H060BB22
, 4H060BB33
, 4H060CC15
, 4H060DD01
, 4H060EE03
, 4H060FF03
, 4H060GG02
