電子ビーム露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-326770
公開番号（公開出願番号）：特開平10-172879
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：

【要約】【課題】露光領域の拡大を可能にした電子ビーム露光装置の提供。【解決手段】パターンが形成された基板を光で照明する照明光学系と、入射された光を電子に変換する光電変換面を有する光電変換部材と、前記パターンの像を前記光電変換面に投影する投影光学系と、前記光電変換面からの放射される電子を加速する加速手段と、前記加速された電子を被露光物体上に投影する電子光学系と、前記電子光学系の軸を中心とした2つの円弧で挟まれた前記光電変換面の円弧状領域からの電子ビームが前記投影光学系を通過する際に発生する収差を補正する補正手段とを有する。

請求項（抜粋）：

電子ビームによって被露光物体を露光する電子ビーム露光装置において、パターンが形成された基板を光で照明する照明光学系と、入射された光を電子に変換する光電変換面を有する光電変換部材と、前記パターンの像を前記光電変換面に投影する投影光学系と、前記光電変換面から放射される電子を加速する加速手段と、前記加速された電子を前記被露光物体上に投影する電子光学系と、前記電子光学系の軸を中心とした2つの円弧で挟まれた前記光電変換面の円弧状領域からの電子ビームが前記投影光学系を通過する際に発生する収差を補正する補正手段とを有することを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504

FI (2件)：

H01L 21/30 541 Z , G03F 7/20 504

引用特許：

出願人引用 (6件)

荷電粒子線転写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-325031 出願人：株式会社ニコン
特開昭63-055936
特開昭52-124873

全件表示

前のページに戻る