特許
J-GLOBAL ID：200903081263239267
リソグラフィ装置およびデバイス製造法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-116334
公開番号（公開出願番号）：特開2004-128449
出願日： 2003年03月17日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】照明設定の制御を改善することができる反射性光学要素を備える照明システムを有するリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】ミラーを使用する照明システムで、視野ファセット・ミラーのファセットが、複数のソース像を瞳孔ファセット・ミラーの個々のファセットに集束させ、集積器の機能を実行する。視野または瞳孔ファセット・ミラーのファセットを選択的に遮断するため、ファセット・マスキング手段を設ける。ファセット・マスキング手段は、投影ビームに選択的に挿入可能なグリッドを有し、中間照明設定を提供する。グリッドは、ソース像より小さいが、投影ビームの波長より大きい間隔を有し、したがって屈折がない。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置で、
-放射線の投影ビームを供給する反射性光学要素を備える放射線システムを備え、前記反射性光学要素が複数のソース像を第2ファセット付きミラー上に生成する第1ファセット付きミラーを含み、さらに、
-パターン形成手段を支持する支持構造を備え、パターン形成手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターン形成する働きをし、さらに、
-基板を保持する基板テーブルと、
-パターン形成したビームを基板の標的部分に投影する投影システムとを備え、
前記第1および第2ファセット付きミラーのうち1つの1つまたは複数のファセットを選択的にマスキングするため、前記投影ビームに選択的に挿入可能な少なくとも1つの部分的に不透明なマスキング・ブレードを備えるファセット・マスキング手段を特徴とし、前記部分的に不透明なマスキング・ブレードは、前記投影ビームの屈折を無視できるようにし、ほぼファセット全体を覆うよう十分に大きいピッチを有する不透明な区域と透明な区域の規則的に周期的な配置構成を有する装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531A
, G03F7/20 503
2H097AA02
, 2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046CB02
, 5F046CB05
, 5F046CB25
, 5F046GA03
, 5F046GA11
, 5F046GB01
, 5F046GB09
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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