特許
J-GLOBAL ID：200903081374925003

ガス制御方法及びレーザコントローラ

発明者：
阿部 保

阿部 保 について

, 
児玉 康司

児玉 康司 について


出願人/特許権者：
株式会社小松製作所

株式会社小松製作所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-001214
公開番号（公開出願番号）：特開2002-208746
出願日： 2001年01月09日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：
【要約】【課題】 レーザガスの組成を適正に保ち、良好なレーザ発振を可能とするエキシマレーザ装置を提供する。【解決手段】 レーザガスを所定の組成比で封入したレーザチャンバ(2)と、放電を起こしてレーザガスを励起する放電電極(4,5)とを備え、レーザ光(11)のパルスエネルギーが略一定となるように放電電極(4,5)間に印加する高電圧を制御したガスレーザ装置(1)の、レーザチャンバ(2)内部のレーザガスを所定の組成比に保つように制御するガス制御方法において、レーザチャンバ(2)中にハロゲンガスを所定量注入するハロゲンガス注入工程と、レーザチャンバ(2)中のレーザガスを所定量交換する部分ガス交換工程とを交互に行なうことにより、レーザチャンバ(2)内部のレーザガスを所定の組成比に保つように制御する。
請求項（抜粋）：
ハロゲンガスを含むレーザガスを封入したレーザチャンバ(2)と、レーザチャンバ(2)内部に配置され、主放電(26)を起こしてレーザガスを励起する放電電極(4,5)とを備え、レーザ光(11)のパルスエネルギーが略一定となるように放電電極(4,5)間に印加する高電圧を制御したガスレーザ装置(1)の、レーザチャンバ(2)内部のレーザガスを所定の組成比に保つように制御するガス制御方法において、レーザチャンバ(2)中にハロゲンガスを所定量注入するハロゲンガス注入工程と、レーザチャンバ(2)中のレーザガスを所定量交換する部分ガス交換工程とを交互に行なうことにより、レーザチャンバ(2)内部のレーザガスを所定の組成比に保つように制御することを特徴とするガス制御方法。
IPC (2件)：
H01S 3/036 ,  H01S 3/225
FI (2件)：
H01S 3/03 J ,  H01S 3/223 E
Fターム (5件)：
5F071AA06 ,  5F071EE04 ,  5F071HH02 ,  5F071HH03 ,  5F071JJ05
引用特許：
審査官引用 (5件)
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