添加剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：荒船博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-182448
公開番号（公開出願番号）：特開2002-040635
出願日： 2001年06月15日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】【課題】フォトレジスト組成物に添加されレジストフロー工程に適用するに適した性質を有する添加剤を提供する。【解決手段】本発明は、ガラス転移温度が非常に高くレジストフロー工程に適用するに困難な重合体を含むフォトレジスト組成物に、ガラス転移温度(Tg)の低い下記式(1)で示される化合物を添加剤として添加することにより、フォトレジスト組成物に全体的に円滑な流れが生じ、レジストフロー工程に適用させることできる。【化1】前記式で、Aは水素又は-OR''で、Bは水素又は-OR'''であり、R、R'、R''、及びR'''は、それぞれ炭素数1〜10の間のアルキル、炭素数1〜10の置換されたアルコキシアルキル、炭素数1〜10の間の置換されたアルキルカルボニル、又は一つ以上の水酸基(-OH)を含む炭素数1〜10の間の置換されたアルキルである。

請求項（抜粋）：

レジストフロー(Resist Flow)工程用フォトレジスト組成物の添加剤であって、下記式(1)で示される化合物であることを特徴とする添加剤。【化1】(前記式で、Aは水素又は-OR''で、Bは水素又は-OR'''であり、R、R'、R''、及びR'''は、それぞれ炭素数1〜10の間の側鎖又は主鎖置換されたアルキル、炭素数1〜10の間の側鎖又は主鎖置換されたアルコキシアルキル、炭素数1〜10の間の側鎖又は主鎖置換されたアルキルカルボニル、又は一つ以上の水酸基(-OH)を含む炭素数1〜10の間の側鎖又は主鎖置換されたアルキルである。)

IPC (6件)：

G03F 7/004 501 , C08F222/06 , G03F 7/039 601 , G03F 7/40 501 , H01L 21/027 , C08F232:04

FI (7件)：

G03F 7/004 501 , C08F222/06 , G03F 7/039 601 , G03F 7/40 501 , C08F232:04 , H01L 21/30 570 , H01L 21/30 502 R

Fターム (34件)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA29 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA05 , 2H096EA23 , 2H096GA08 , 2H096HA01 , 2H096HA30 , 4J100AK32P , 4J100AR11Q , 4J100BA03Q , 4J100BA15Q , 4J100BA16Q , 4J100BA20Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (5件)

遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-128606 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
環式オレフィン重合体および添加剤を含むフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-065165 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
共重合体樹脂とその製造方法、この共重合体樹脂を含むフォトレジスト、および半導体素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-365227 出願人：現代電子産業株式会社

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