特許
J-GLOBAL ID：200903081736540040
ナノインプリント装置およびナノインプリント方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
細見 吉生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-103660
公開番号（公開出願番号）：特開2007-281099
出願日： 2006年04月04日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：
【課題】 円筒(ローラー)を長くした場合にもそれを均一に基板上に押し付けることができ、もって微細パターンの正確な転写を可能とするナノインプリント装置および方法を提供する。【解決手段】 モールドもしくは被転写膜またはそれらの双方を表面上に取り付け可能な平板20のほか、上記表面の側にある表側ローラー11とその反対側にある裏側ローラー12・13とによって当該平板20をはさみ付け得るローラー組10、および、上記平板20とそれをはさみ付けたローラー組10との間に相対移動をもたらす移動機構30を組み合わせてナノインプリント装置1を構成する。そして裏側ローラー12・13は、表側ローラー11の長さの方向に不連続な複数の支持ローラーであって、平板20をはさみ付ける向きの力を個別に調整できるものにより構成している。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
モールドに形成された微細パターンを被転写膜に転写するためのナノインプリント装置であって、
モールドもしくは被転写膜またはそれらの双方を表面上に取り付け可能な平板のほか、上記表面の側にある表側ローラーとその反対側にある裏側ローラーとによって当該平板をはさみ付け得るローラー組、および、上記平板とそれをはさみ付けたローラー組との間に相対移動をもたらす移動機構を有し、
上記ローラー組のうちに、表側ローラーの長さの方向に不連続な複数の支持ローラーであって平板をはさみ付ける向きの力を個別に調整できるものを含むことを特徴とするナノインプリント装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B82B 3/00
, B81C 5/00
, B29C 59/04
H01L21/30 502D
, B82B3/00
, B81C5/00
, B29C59/04 C
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG01
, 4F209AG05
, 4F209PA03
, 4F209PB02
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ01
, 5F046AA28
