特許
J-GLOBAL ID：200903081840888920

レジストの除去方法

発明者：
中林 豊

中林 豊 について

, 
木原 康夫

木原 康夫 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (1件)： 祢▲ぎ▼元 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-129328
公開番号（公開出願番号）：特開平8-305042
出願日： 1995年04月27日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】 半導体の製造や回路の作製などにおいて、不用となつた物品上のレジストを簡単かつ確実に除去する。【構成】 イオン注入によつて褐色ないし黒色に変質したレジストパタ-ンが存在する物品上に、ラジカル連鎖反応性のモノマ-を含む光硬化型感圧性接着剤を用いたシ-ト状、テ-プ状などの接着シ-ト類を貼り付けて、上記モノマ-の一部をレジスト材中に浸透させたのち、この接着シ-ト類に光照射して上記接着剤を光硬化させ、その際レジスト材中に浸透させた上記モノマ-もラジカル連鎖反応によつてレジスト材内部まで連鎖的に硬化反応させ、その後にこの接着シ-ト類とレジスト材とを一体に剥離除去する。
請求項（抜粋）：
イオン注入によつて褐色ないし黒色に変質したレジストパタ-ンが存在する物品上に、ラジカル連鎖反応性のモノマ-を含む光硬化型感圧性接着剤を用いた接着シ-ト類を貼り付けて、上記モノマ-の一部をレジスト材中に浸透させたのち、この接着シ-ト類に光照射して上記接着剤を光硬化させ、その際レジスト材中に浸透させた上記モノマ-もラジカル連鎖反応によつてレジスト材内部まで連鎖的に硬化反応させ、その後にこの接着シ-ト類とレジスト材とを一体に剥離除去することを特徴とするレジストの除去方法。
IPC (7件)：
G03F 7/42 ,  C08F290/00 MRM ,  C09J 7/02 JHR ,  C09J 7/02 JJU ,  C09J 7/02 JLE ,  C09J171/00 JBT ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/42 ,  C08F290/00 MRM ,  C09J 7/02 JHR ,  C09J 7/02 JJU ,  C09J 7/02 JLE ,  C09J171/00 JBT ,  H01L 21/30 572 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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