平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-252774
公開番号（公開出願番号）：特開2002-141280
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：

【要約】【課題】本発明は従来の技術では平板投影装置で使用するには不都合であった、波長が50nm未満の放射線を検出可能な放射線センサが都合よく位置している平板投影装置を提供する。【解決手段】 50nm未満の波長λ1を有する放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含む。更に、投影ビームからの放射線を受け取るように位置し、波長λ1の入射放射線を二次放射線に変換する放射線感受性材料からなる放射線センサと、前記材料の層から出てくる二次放射線を検出可能な感知手段とを含む。

請求項（抜粋）：

波長λ1が50nm未満である放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するように作用するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、前記基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムと、投影ビームからの放射線を受け取ることができるように位置した放射線センサであって、波長λ1の入射放射線を二次放射線に変換する放射線感受性材料と、前記層から出てくる前記二次放射線を検出可能な感知手段とを含む放射線センサとを含むことを特徴とする平板投影装置。

IPC (7件)：

H01L 21/027 , G01T 1/20 , G01T 1/28 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 5/00 , G21K 5/02

FI (7件)：

G01T 1/20 B , G01T 1/28 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 5/00 Z , G21K 5/02 X , H01L 21/30 531 A

Fターム (20件)：

2G088EE29 , 2G088EE30 , 2G088FF02 , 2G088FF10 , 2G088FF14 , 2G088GG10 , 2G088GG19 , 2G088GG20 , 2G088GG25 , 2G088JJ04 , 2G088JJ05 , 2G088JJ31 , 2G088KK32 , 2G088KK35 , 2H097AA03 , 2H097CA13 , 2H097LA10 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB09

引用特許：

出願人引用 (7件)

半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-283179 出願人：株式会社日立製作所
露光装置及び該装置を用いた露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-263679 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-202615 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (7件)

露光装置及び該装置を用いた露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-263679 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-202615 出願人：株式会社ニコン
X線露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-003055 出願人：住友重機械工業株式会社

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