コンテクスト特定型のマスク検査のための方法及びシステム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 今城俊夫 , 西島孝喜
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-521802
公開番号（公開出願番号）：特表2006-502422
出願日： 2003年07月14日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：

【課題】集積チップのフォトリソグラフィ製造のためのフォトマスクを検査する技術を提供する。【解決手段】集積回路の設計データを生成する段階、及び、マスクを検査するために集積回路の設計データからのコンテクスト情報を使用する段階を含んでいる、リソグラフィ用のマスクを検査する方法。

請求項（抜粋）：

集積回路の設計データを生成する段階と、マスクを検査するために前記集積回路の設計データの形態相互の関係に関する情報を使用する段階と、を含むことを特徴とする、マスクを検査する方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F1/08 S , H01L21/30 502P

Fターム (4件)：

2H095BD03 , 2H095BD04 , 2H095BD07 , 2H095BD28

引用特許：

審査官引用 (4件)

レチクルを製造および検査するためのメカニズム
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-588700 出願人：ケーエルエー-テンカーコーポレイション
欠陥検査装置及び検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-094677 出願人：株式会社東芝
マスクパターンの検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-249762 出願人：株式会社東芝

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