研磨液組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-141025
公開番号（公開出願番号）：特開2001-323255
出願日： 2000年05月12日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：

【要約】【課題】研磨後の洗浄工程で、被研磨基板上に実質的に研磨材が残留することなく、被研磨基板の表面平滑性を維持し、表面欠陥を発生させず、且つ経済的な速度で研磨できる研磨液組成物、該研磨液組成物を用いた被研磨基板の研磨方法、該研磨液組成物を用いた基板の製造方法を提供すること。【解決手段】水と研磨材を含んでなる研磨液組成物であって、研磨材の粒径分布において、?@粒径40nmにおける小粒径側よりの積算粒径分布(個数基準)が25%以下で、且つ?A小粒径側よりの積算粒径分布(個数基準)が50%となる粒径(D50)が50〜600nmであることを特徴とする研磨液組成物、該研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する被研磨基板の研磨方法、並びに前記研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

水と研磨材を含んでなる研磨液組成物であって、研磨材の粒径分布において、?@粒径40nmにおける小粒径側よりの積算粒径分布(個数基準)が25%以下で、且つ?A小粒径側よりの積算粒径分布(個数基準)が50%となる粒径(D50)が50〜600nmであることを特徴とする研磨液組成物。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , G11B 5/84

FI (4件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 F , B24B 37/00 H , G11B 5/84 Z

Fターム (8件)：

3C058CB02 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C058DA17 , 5D112AA02 , 5D112BA06 , 5D112GA09 , 5D112GA14

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平2-257627
特開平2-257627
特開平3-080106

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