活性金属を有するメソ孔物質

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梅村莞爾
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-559208
公開番号（公開出願番号）：特表2006-515584
出願日： 2003年12月03日
公開日（公表日）： 2006年06月01日
要約：

有機化合物を処理するプロセスは、約15オングストロームから約30オングストロームの範囲の細孔径を有する細孔を体積で少なくとも97%含有しかつ少なくとも約0.01cc/gのミクロ孔体積を有する、シリカの実質的なメソ孔構造であって、Al、Ti、V、Cr、Zn、Fe、Sri、Mo、Ga、Ni、Co、In、Zr、Mn、Cu、Mg、Pd、Pt、およびWから成る群より選択される少なくとも一つの触媒的および/または化学的に活性なヘテロ原子を重量で少なくとも約0.02%を組み込んでいるメソ孔構造を含む組成物であって、前記触媒は、2θにおいて0.3°から約3.5°に一つのピークを有するX線回折パターンを有する、組成物を提供する。触媒は、反応条件下で有機供給物と接触し、処理プロセスは、アルキル化、アシル化、オリゴマー化、選択的酸化、水素化処理、異性化、脱金属化、触媒的脱ろう化、ヒドロキシル化、水素化、アンモオキシム化、異性化、脱水素、クラッキング、および吸着から選択される。

請求項（抜粋）：

a) 約15オングストロームから約300オングストロームの範囲の細孔径を有する細孔を体積で少なくとも97%含有しかつ少なくとも約0.01cc/gのミクロ孔体積を有する、シリカの実質的なメソ孔構造であって、Al、Ti、V、Cr、Zn、Fe、Sn、Mo、Ga、Ni、Co、In、Zr、Mn、Cu、Mg、Pd、Ru、Pt、W、およびこれらの組み合わせから成る群より選択される少なくとも一つの触媒的および/または化学的に活性なヘテロ原子を重量で少なくとも約0.02%を組み込んでいるメソ孔構造を含む組成物であって、前記触媒は、2θにおいて0.3°から約3.5°に一つのピークを有するX線回折パターンを有する、組成物を提供し、 b) 反応条件下で有機化合物含有供給物を前記触媒と接触させる、ことを含む、有機化合物を処理するプロセスであって、この処理プロセスは、アルキル化、アシル化、オリゴマー化、選択的酸化、水素化処理、異性化、脱金属化、触媒的脱ろう化、ヒドロキシル化、水素化、アンモオキシム化、異性化、脱水素、クラッキング、および吸着から成る群より選択される、ことを特徴とする、有機化合物を処理するプロセス。

IPC (15件)：

C07C 2/08 , B01J 29/03 , B01J 29/035 , C07B 33/00 , C07C 2/66 , C07C 2/88 , C07C 11/02 , C07C 15/16 , C07C 15/24 , C07C 45/28 , C07C 45/29 , C07C 45/46 , C07C 49/603 , C07C 49/78 , C07C 49/84

FI (15件)：

C07C2/08 , B01J29/03 Z , B01J29/035 Z , C07B33/00 , C07C2/66 , C07C2/88 , C07C11/02 , C07C15/16 , C07C15/24 , C07C45/28 , C07C45/29 , C07C45/46 , C07C49/603 , C07C49/78 , C07C49/84 C

Fターム (85件)：

4G169AA01 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169AA12 , 4G169BA01A , 4G169BA01B , 4G169BA02A , 4G169BA02B , 4G169BA04A , 4G169BA10B , 4G169BB04A , 4G169BC10A , 4G169BC16A , 4G169BC16B , 4G169BC17A , 4G169BC17B , 4G169BC18A , 4G169BC22A , 4G169BC22B , 4G169BC31A , 4G169BC35A , 4G169BC35B , 4G169BC50A , 4G169BC50B , 4G169BC51A , 4G169BC54A , 4G169BC54B , 4G169BC58A , 4G169BC58B , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BC60A , 4G169BC60B , 4G169BC62A , 4G169BC66A , 4G169BC66B , 4G169BC67A , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169BC70A , 4G169BC72A , 4G169BC72B , 4G169BC75A , 4G169CB02 , 4G169CB07 , 4G169CB41 , 4G169CB59 , 4G169CB62 , 4G169CB70 , 4G169CC02 , 4G169CC06 , 4G169DA06 , 4G169EA01Y , 4G169EC07Y , 4G169EC08Y , 4G169EC09X , 4G169EC21Y , 4G169FC08 , 4G169ZA01A , 4G169ZA01B , 4G169ZA36A , 4G169ZA36B , 4G169ZB08 , 4G169ZD06 , 4H006AA02 , 4H006AC21 , 4H006AC24 , 4H006AC44 , 4H006BA53 , 4H006BA60 , 4H006BA63 , 4H006BA64 , 4H006BA81 , 4H006BB11 , 4H006BB16 , 4H006BB61 , 4H039CA19 , 4H039CA29 , 4H039CA41 , 4H039CA62 , 4H039CC20 , 4H039CC30 , 4H039CD10 , 4H039CD20 , 4H039CF10

引用特許：

審査官引用 (22件)

特許第6358486号
ジアルキルナフタレンの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-080878 出願人：株式会社コスモ総合研究所
銅含有触媒およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-320299 出願人：中國石油化工集團公司, 中國石油化工集團公司撫順石油化工研究院

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