特許
J-GLOBAL ID：200903082544099819
キャリブレーション方法、リソグラフィ装置、およびそのようなリソグラフィ装置のためのパターニングデバイス
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-067920
公開番号（公開出願番号）：特開2007-281449
出願日： 2007年03月16日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：
【課題】リソグラフィ装置における基板テーブル位置をキャリブレーションする。【解決手段】基板の表面に二次元パターン配列が作成されるように基板の表面にパターンを繰り返し照射すること500と、この繰り返し照射に、基板の表面の別の場所にそのパターンを照射するために連続照射の合間に基板テーブルをずらすことを含めることと、2つの次元におけるパターンを読み出して、パターン読み出し結果を取得すること510と、2つの次元における基板テーブルの位置に応じて隣接パターンの読み出し結果から増分位置偏差を導出すること520と、増分位置偏差から、基板テーブルの位置誤差を、基板テーブルの二次元位置の関数として導出すること530と、位置に依存する位置誤差を用いて基板テーブルの位置をキャリブレーションすること540とを含む。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置の基板テーブル位置をキャリブレーションするキャリブレーション方法であって、
基板の表面にパターンの二次元配列が作成されるように前記基板の前記表面にパターンを繰り返し照射し、前記繰り返し照射は、前記基板の前記表面の別の場所に前記パターンを照射するために連続照射の合間に前記基板テーブルをずらすことを含むことと、
前記パターンを読み出し、パターン読み出し結果を取得することと、
前記二次元配列の2つの次元における前記基板テーブルの位置に応じて、隣接パターンの読み出し結果から増分位置偏差を導出することと、
前記増分位置偏差から、前記基板テーブルの二次元位置の関数として、前記基板テーブルの位置誤差を導出することと、
位置に依存する前記位置誤差を用いて前記基板テーブルの位置をキャリブレーションすることとを含む、キャリブレーション方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 9/00
, H01L 21/68
H01L21/30 525W
, H01L21/30 516B
, H01L21/30 515G
, G03F9/00 H
, H01L21/68 K
5F031CA07
, 5F031CA11
, 5F031HA53
, 5F031JA02
, 5F031JA28
, 5F031JA38
, 5F031JA39
, 5F031KA06
, 5F031MA27
, 5F046CC01
, 5F046CC03
, 5F046CC13
, 5F046CC16
, 5F046EB03
, 5F046EC02
, 5F046FC04
