基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：吉武賢次 , 永井浩之 , 岡田淳平 , 勝沼宏仁 , 堀田幸裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-110957
公開番号（公開出願番号）：特開2007-287790
出願日： 2006年04月13日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：

【課題】被処理基板の全面からパーティクルを高い除去効率で除去することができる基板洗浄方法を提供する。【解決手段】被処理基板Wは、洗浄槽12に貯留された洗浄液内に浸漬される。次に、前記洗浄槽12内の洗浄液に超音波が発生させられ、被処理基板Wが超音波洗浄される。この超音波を発生させる工程は、洗浄槽内へ洗浄液を供給しながら当該洗浄槽内に超音波を発生させる工程と、洗浄槽内への洗浄液の供給を停止した状態で当該洗浄槽内に超音波を発生させる工程と、を含んでいる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

洗浄槽に貯留された洗浄液内に被処理基板を浸漬する工程と、前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程と、を備え、前記超音波を発生させる工程は、前記洗浄槽内へ洗浄液を供給しながら当該洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程と、前記洗浄槽内への洗浄液の供給を停止した状態で当該洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 , G06Q 50/00

FI (3件)：

H01L21/304 642E , H01L21/304 648G , G06F17/60 106

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開10-109072号公報

審査官引用 (6件)

高周波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-264175 出願人：株式会社プレテック, 大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-199714
洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-195888 出願人：オリンパス光学工業株式会社

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