特許
J-GLOBAL ID:200903082633440753
超純水製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
赤塚 賢次 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-073696
公開番号(公開出願番号):特開2003-266069
出願日: 2002年03月18日
公開日(公表日): 2003年09月24日
要約:
【要約】【課題】 ユースポイントに移送される超純水中に僅かに混入する微粒子とイオン成分の両方を除去し、高集積デバイスの製造等に適する超純水を安定して供給し、モジュールの交換頻度を著しく低減する超純水製造装置を提供する。【解決手段】 超純水を配管移送してユースポイントに供給する超純水製造装置において、該超純水を移送する配管の途中に、互いにつながっているマクロポアとマクロポアの壁内に平均径が1〜1,000μmのメソポアを有する連続気泡構造を有し、イオン交換基が均一に分布され、イオン交換容量が0.5mg当量/g乾燥多孔質体以上である3次元網目構造を有する有機多孔質イオン交換体を充填したモジュールを設置し、該モジュールで超純水を更に処理する。
請求項(抜粋):
超純水を配管移送してユースポイントに供給する超純水製造装置において、該超純水を移送する配管の途中に、互いにつながっているマクロポアとマクロポアの壁内に平均径が1〜1,000μmのメソポアを有する連続気泡構造を有し、全細孔容積が1ml/g〜50ml/gであり、イオン交換基が均一に分布され、イオン交換容量が0.5mg当量/g乾燥多孔質体以上である3次元網目構造を有する有機多孔質イオン交換体を充填したモジュールを設置し、該モジュールで超純水を更に処理することを特徴とする超純水製造装置。
IPC (9件):
C02F 1/42
, B01D 61/18
, C02F 1/32
, C02F 1/44
, C02F 1/72 101
, C02F 9/00 502
, C02F 9/00
, C02F 9/00 503
, C02F 9/00 504
FI (12件):
C02F 1/42 A
, B01D 61/18
, C02F 1/32
, C02F 1/44 J
, C02F 1/72 101
, C02F 9/00 502 G
, C02F 9/00 502 J
, C02F 9/00 502 N
, C02F 9/00 502 R
, C02F 9/00 503 B
, C02F 9/00 504 B
, C02F 9/00 504 E
Fターム (26件):
4D006GA06
, 4D006KA01
, 4D006KA72
, 4D006KB04
, 4D006KB11
, 4D006PA01
, 4D006PB02
, 4D006PC02
, 4D025AA04
, 4D025AB01
, 4D025BA07
, 4D025BB02
, 4D025DA04
, 4D025DA05
, 4D037AA03
, 4D037AB01
, 4D037BA18
, 4D037CA03
, 4D037CA12
, 4D037CA15
, 4D050AA05
, 4D050AB07
, 4D050BB01
, 4D050BC09
, 4D050CA08
, 4D050CA09
引用特許:
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