感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-114202
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308729
出願日： 1993年04月19日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：

【要約】【目的】良好な形状を有するレジストパターンを形成しうるとともに、エッチング液に侵されない高い耐酸性と基板に対する高い密着性とを有し、且つ有機アルカリからなる剥離液等により容易に溶解しうる高い剥離性を具備したネガ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 (イ)ポリスチレン換算重量平均分子量が1,000〜10,000であるアルカリ可溶性ノボラック樹脂100重量部に対して、(ロ)メチロール基および/またはアルコキシメチル基を含有し、酸の存在下で前記アルカリ可溶性ノボラック樹脂を架橋しうる化合物1〜10重量部、および(ハ)下記一般式で表される感放射線性酸発生剤0.01〜5重量部を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔但し、R は-CX3基、フェニル基、ナフチル基、スチリル基またはフリルエチリデン基を示し、X はハロゲン原子を示す。〕

請求項（抜粋）：

(イ)ポリスチレン換算重量平均分子量が1,000〜10,000であるアルカリ可溶性ノボラック樹脂100重量部に対して、(ロ)メチロール基および/またはアルコキシメチル基を含有し、酸の存在下で前記アルカリ可溶性ノボラック樹脂を架橋しうる化合物1〜10重量部、および(ハ)下記一般式(1)で表される感放射線性酸発生剤0.01〜5重量部を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R は-CX3基、置換あるいは非置換のフェニル基、置換あるいは非置換のナフチル基、置換あるいは非置換のスチリル基または置換あるいは非置換のフリルエチリデン基を示し、X はハロゲン原子を示し、一般式(1)中の各X は相互に同一でも異なってもよい。〕

IPC (4件)：

G03F 7/038 , G02B 5/20 101 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平4-230757
特開平4-163552
特開平4-226454

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