赤外ガラス蛍光体及び半導体発光素子で構成した光干渉断層撮影装置用光源。

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-017260
公開番号（公開出願番号）：特開2008-185378
出願日： 2007年01月29日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：

【課題】波長1μmの近赤外線領域で、半値幅が広く、かつ、ガウシアン類似形状の発光スペクトルを有し、安価・小型・簡単な構成、取り扱いが容易という特徴を有する光干渉断層撮影装置用光源を提供する。【解決手段】半値幅の広い赤外ガラス蛍光体と半導体発光素子とを組み合わせることにより、光干渉断層撮影装置用光源に関する上記課題を解決する。具体的には、赤外ガラス蛍光体と、半導体発光素子と、前記赤外ガラス蛍光体を前記半導体発光素子の発光面に配置する。赤外ガラス蛍光体中にYbイオンが含まれていることが望ましい。また、赤外蛍光体中にYbイオンと共にNdイオンが含まれていることが、さらに望ましい。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

赤外ガラス蛍光体と、半導体発光素子と、前記赤外ガラス蛍光体を前記半導体発光素子の発光面に配置することを特徴とする光干渉断層撮影装置用光源。

IPC (2件)：

G01N 21/01 , G01N 21/17

FI (2件)：

G01N21/01 D , G01N21/17 620

Fターム (10件)：

2G059AA05 , 2G059AA06 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059GG01 , 2G059GG02 , 2G059GG09 , 2G059HH01

引用特許：

出願人引用 (2件)

同軸型空間光干渉断層画像計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-249545 出願人：丹野直弘, マイクロトモグラフィー株式会社
分光機能を備えた光干渉断層画像計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-219244 出願人：科学技術振興事業団

審査官引用 (5件)

光断層画像化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-067264 出願人：富士写真フイルム株式会社
発光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-037289 出願人：松下電工株式会社
無機光学材料、光源、マイケルソン干渉計、光コヒーレントトモグラフィ装置、及び光増幅器
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-009366 出願人：住友電気工業株式会社, 国立大学法人九州大学

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