特許
J-GLOBAL ID：200903082836982187
ダイヤモンド薄膜の化学機械研磨方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-153758
公開番号（公開出願番号）：特開2002-346915
出願日： 2001年05月23日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：
【要約】【目的】 化学反応及び砥粒による機械的作用が複合された化学機械研磨によってダイヤモンド薄膜を研磨することにより、欠陥がなくナノメータオーダーで平滑な表面にダイヤモンド薄膜を改質する。【構成】 酸化触媒作用のある砥粒を分散させた酸化性研磨液にダイヤモンド薄膜を浸漬し、砥粒で薄膜表面を擦過しながらダイヤモンド薄膜を研磨する。砥粒としてはたとえば酸化触媒作用のある酸化クロム,酸化鉄等が使用され、過酸化水素水,硝酸塩水溶液,或いはそれらの混合液に砥粒を分散させた研磨液を調製することが好ましい。
請求項（抜粋）：
酸化触媒作用のある砥粒を分散させた酸化性研磨液にダイヤモンド薄膜を浸漬し、砥粒で薄膜表面を擦過しながらダイヤモンド薄膜を研磨することを特徴とするダイヤモンド薄膜の化学機械研磨方法。
Fターム (5件)：
3C058AA07
, 3C058CA01
, 3C058CB01
, 3C058DA02
, 3C058DA12
