ダイヤモンド薄膜の化学機械研磨方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小倉亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-153758
公開番号（公開出願番号）：特開2002-346915
出願日： 2001年05月23日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【目的】化学反応及び砥粒による機械的作用が複合された化学機械研磨によってダイヤモンド薄膜を研磨することにより、欠陥がなくナノメータオーダーで平滑な表面にダイヤモンド薄膜を改質する。【構成】酸化触媒作用のある砥粒を分散させた酸化性研磨液にダイヤモンド薄膜を浸漬し、砥粒で薄膜表面を擦過しながらダイヤモンド薄膜を研磨する。砥粒としてはたとえば酸化触媒作用のある酸化クロム,酸化鉄等が使用され、過酸化水素水,硝酸塩水溶液,或いはそれらの混合液に砥粒を分散させた研磨液を調製することが好ましい。

請求項（抜粋）：

酸化触媒作用のある砥粒を分散させた酸化性研磨液にダイヤモンド薄膜を浸漬し、砥粒で薄膜表面を擦過しながらダイヤモンド薄膜を研磨することを特徴とするダイヤモンド薄膜の化学機械研磨方法。

Fターム (5件)：

3C058AA07 , 3C058CA01 , 3C058CB01 , 3C058DA02 , 3C058DA12

引用特許：

出願人引用 (4件)

メカノケミカル研磨方法及びメカノケミカル研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-259116 出願人：株式会社デンソー
気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-009201 出願人：三菱マテリアル株式会社
半導体プロセスに使用する化学機械的研磨剤組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-351205 出願人：エターナルケミカルシーオー.,エルティーディー.

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