特許
J-GLOBAL ID:200903082917577449
めっき用処理液の撹拌方法及びめっき用処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
熊谷 隆
, 高木 裕
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-171177
公開番号(公開出願番号):特開2005-008911
出願日: 2003年06月16日
公開日(公表日): 2005年01月13日
要約:
【課題】パドルの往復運動の速度を上げなくても効果的にめっき液や薬液の撹拌が行え、めっき液や薬液の波立ちや飛散を抑えて処理速度を上げることができるめっき用処理液の撹拌方法及びめっき用処理装置を提供すること。【解決手段】基板Wの被めっき面W1に対して平行に往復運動することでめっき液12を撹拌するパドル34を設置する。パドル34に、パドル34の往復運動に伴って湾曲する弾性体からなるフィン41を取り付ける。湾曲したフィン41に沿うめっき液12の流れは、めっき液12を被めっき面W1近傍にスムーズに向かわせる流れとなり、被めっき面W1近傍のめっき液12を強く撹拌し、被めっき面W1の全面でめっき液12の流れの方向性をなくし、被めっき面W1の全面に亘ってより均一な膜厚のめっき膜を形成できる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
めっき用処理液中に配置した被めっき体の被めっき面に対向する位置に設置したパドルを前記被めっき面に対して平行に往復運動することで前記処理液を撹拌するめっき用処理液の撹拌方法において、
前記パドルに取り付けた弾性体からなるフィンを、パドルの往復運動の際に湾曲させることで湾曲したフィンに沿う処理液の流れを被めっき面近傍に向かう流れにすることを特徴とするめっき用処理液の撹拌方法。
IPC (3件):
C25D21/10
, C25D5/08
, C25D7/12
FI (3件):
C25D21/10 301
, C25D5/08
, C25D7/12
Fターム (13件):
4K024AA09
, 4K024AA11
, 4K024AA21
, 4K024AB08
, 4K024BA15
, 4K024BB12
, 4K024BC10
, 4K024CA10
, 4K024CB12
, 4K024CB13
, 4K024FA05
, 4K024GA01
, 4K024GA16
引用特許:
出願人引用 (8件)
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表面処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-277834
出願人:本田技研工業株式会社
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特開平2-090591
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表面処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-285989
出願人:三菱電機株式会社
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特開平3-294497
-
特開昭57-067192
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電気メッキ装置の攪拌方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-119541
出願人:株式会社荏原製作所
-
薄膜磁気ヘッドの磁極形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-012176
出願人:富士電気化学株式会社
-
特開平2-190499
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審査官引用 (8件)
-
電気メッキ装置の攪拌方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-119541
出願人:株式会社荏原製作所
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表面処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-277834
出願人:本田技研工業株式会社
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特開平2-090591
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薄膜磁気ヘッドの磁極形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-012176
出願人:富士電気化学株式会社
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特開平2-190499
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表面処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-285989
出願人:三菱電機株式会社
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特開平3-294497
-
特開昭57-067192
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